Kurzfassung: Im besonderen Fall der gütegeschalteten UV-Laserstrahlung mit Wellenlängen von 266nm und 355nm ist der Vorgang der defektindizierten Zerstörung im Detail untersucht worden. Anhand eines verfeinerten Messverfahrens nach dem ISO-Standard 21254-2 wurden so SiO2, HfO2 und Al2O3 als oxidische Beschichtungsmaterialien analysiert. Im Zentrum standen dabei die in den Schichten vorhandenen Defektensembles und ihr Ansprechverhalten auf die Laserstrahlung. Ebenfalls spielt in UV-Anwendungen die Zweiphotonenabsorption (2PA) eine große Rolle. Auf Basis des speziellen LZH-IBS-Prozesses (Ion Beam Sputtering) konnten konfektionierte Einzel~schichten hergestellt werden, die eine Untersuchung des Einflusses der 2PA in Resonanz er~möglichte. Im letzten Schritt wurde dann die Entwicklung der prozessbedingten Defekt~ensembles unter UV-Bestrahlung geprüft.
